実験室用の単一加熱ゾーンを備えた CVD 管状炉3つの加熱ゾーンを備えたCVD管状炉
・OTF-1200X-Sは空冷二層構造の単一温度帯開放型真空管炉です。
・炉本体の表面温度は60℃以下に保たれます。
- ポンプシステムを備えた管状炉は、高温真空吸着を使用した高純度アルミナ微結晶ファイバーで作られています。
- 輸入された加熱抵抗線プログラムインサートにより、高温管状炉本体の耐用年数が延長されます。
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